Chapman B., Glow discharge processes. Sputtering and plasma etching

Springer, Berlin, 1999. - 476 c. Приведен обзор физических основ газовых разрядов, используемых для создания источников ионов. Книга содержит следующие разделы: Основы газовых разрядов Системы экстракции для ионных источников Источники положительных ионов Гигантские ионные источники Источники многозарядных ионов Масс- и энергетические спектры ионных источников Источники...

Cambridge International Science Publishi, 2001. 520 p. ISBN:1898326231 The book contains the results of investigations of electro-physical, chemical, gas-dynamic and other processes in low-temperature plasma and their diagnostics. Both conventional spectral and optical methods of diagnostics and new and laser methods are examined, together with electrostatic probes for...

СПб.: Изд-во СПбГУ, 2008. - 224 c. В предлагаемой работе авторы, по роду своей деятельности, занимавшиеся вопросами Физики низкотемпературной плазмы (ФНТП), постарались отобрать из имеющегося материала основные начальные сведения по физике низкотемпературной плазмы и изложить их в доступной форме для студентов, специализирующихся в физике и химии плазмы и их прикладных...