Ильин O.H., Ильина М.В., Коломийцев А.С., Житяева Ю.Ю., Солодовник М.С. (сост.) Основы электронно-лучевой литографии

Учебно-методическое пособие. — Таганрог: Южный федеральный университет, 2023. — 56 с.В учебно-методическом пособии представлено теоретическое описание метода электронно-лучевой литографии, влияния конструктивных элементов электронной оптики на параметры экспонирования, а также применения различных типов резиста для получения структур с заданными геометрическими размерами методом электронно-лучевой литографии. Даны методические указания по работе с приставкой электронно-лучевой литографии Raith Elphy Plus на базе электронного микроскопа Nova Nanolab 600.
Пособие может быть использовано студентами, обучающимися по направлениям «Нанотехнологии и микросистемная техника» и «Наноинженерия», при изучении курсов «Микро- и нанотехнологии», «Наноматериалы: свойства и применение», а также при самостоятельной подготовке и переподготовке специалистов в области нано- и микроэлектроники.Введение.
Теоретическая часть.
Физические основы электронно-лучевой литографии.
Параметры резистов.
Типы резистов для ЭЛЛ.
Позитивные резисты.
Негативные резисты.
Химически усиленные резисты.
Проявление.
Взаимодействие электрона с подложкой.
Вторичные электроны.
Обратное рассеяние.
Эффект близости.
Компоненты литографических систем на основе растровых электронных микроскопов.
Источники электронов.
Электронные линзы.
Дефлекторы луча.
Другие элементы электронной колонны.
Компьютерное управление.
Подвижка.
Вакуумная система.
Практическая часть.
Процедура подготовки к процессу ЭЛЛ.
Калибровка отклонения.
Позиционирование и определение системы отсчета.
Угловая коррекция.
Коррекция нулевого положения системы координат.
Контрольные вопросы.
Заключение.
Библиографический список.