Зарегистрироваться
Восстановить пароль
FAQ по входу

Барбарош С.С. Литография высокого разрешения в технологии полупроводников

  • Файл формата zip
  • размером 157,73 КБ
  • содержит документ формата doc
  • Добавлен пользователем , дата добавления неизвестна
  • Описание отредактировано
Барбарош С.С. Литография высокого разрешения в технологии полупроводников
Без выходных данных. 35 с.
Оптическая литография объединяет в себе такие области науки, как оптика, механика и фотохимия. При любом типе печати ухудшается резкость края. Проецирование двумерного рисунка схемы ведет к уменьшению крутизны края, поэтому нужен специальный резист, в котором под воздействием синусоидально модулированной интенсивности пучка будет формироваться прямоугольная маска для последующего переноса изображения травлением или взрывной литографией.
Фотолитография.
Введение.
Характеристики электронно-лучевых установок.
Электронно-лучевое экспонирование.
Рентгеновское и ионно-лучевое экспонирование.
Рентгеновское излучение.
Ионные пучки.
Заключение
  • Чтобы скачать этот файл зарегистрируйтесь и/или войдите на сайт используя форму сверху.
  • Регистрация

Смотри также

Подробнее

Айнспрук Н., Браун Д. (ред.) Плазменная технология в производстве СБИС

  • pdf
Коллектив авторов. — Перевод с англ. Ю.М.Золотарева, В.В. Юдина под ред. Е.С. Машковой. — Монография. — М.: Мир, 1987. — 471 с. Книга ведущих специалистов из США и Японии, в которой рассмотрены вопросы физики, химии и технологии применения плазменной обработки в производстве СБИС. Это своеобразная энциклопедия по физики, химии процессов осаждения, литографии и травления с...
  • 68,06 МБ
  • добавлен
  • описание отредактировано
Подробнее

Броудай И., Мерей Дж. Физические основы микротехнологии

  • pdf
Пер. с англ. — М.: Мир, 1985. — 496 с. В книге американских специалистов изложены физические принципы основных технологических процессов современной (на 1985 год) микроэлектроники, включая субмикронную литографию, сухое травление, лазерный и электронно-лучевой отжиг. Рассмотрены перспективы совершенствования технологии и фундаментальные ограничения на дальнейшее развитие...
  • 20,97 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Подробнее

Готра З.Ю. Технология микроэлектронных устройств

  • djvu
Справочник. — Москва: Радио и связь, 1991, 528 с. Рассмотрены механические, химические, ионные, плазменные, электронно-лучевые и другие методы обработки в технологии микроэлектронных устройств. Обобщены данные по выращиванию монокристаллов, диффузии, эпитаксии, ионной имплантации, технологии тонких пленок, литографии, сборке и герметизации. Значительное внимание уделено контролю,...
  • 9,34 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Подробнее

Лапшинов Б.А. Технология литографических процессов

  • pdf
М.: Московский государственный институт электроники и математики, 2011. — 99 с. Изложены принципы и методы выполнения всех операций, составляющих единый технологический процесс фотолитографии. Дан анализ ограничений разрешающей способности традиционной фотолитографии и показаны пути их преодоления. Приведены сведения о развитии литографических процессов и основные принципы их...
  • 3,73 МБ
  • добавлен
  • описание отредактировано
Подробнее

Моро У. Микролитография. Принципы, методы, материалы

  • image
  • pdf
В 2-х частях. — М.: Мир, 1990. — 605+632 с. Книга крупного американского специалиста по сути представляет собой энциклопедию, посвященную микролитографии, материалам для полупроводниковой технологии и вспомогательным технологическим операциям. В 1-й части рассматриваются различные виды резистов, методы их нанесения, сушки, экспонирования, травления, а также процессы рентгеновской,...
  • 82,44 МБ
  • добавлен
  • описание отредактировано
Подробнее

Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. Книга 8. Мартынов В.В., Базарова Т.Е. Литографические процессы

  • djvu
В 10-и книгах. — Москва: Высшая школа, 1990. — 128 с.: ил. — ISBN 5-06-0010805. В книге описаны современные методы литографии (фотолитография, рентгенолитография, электронолитография и ионолитография) и изготовления шаблонов при производстве полупроводниковых приборов и ИМС. Рассмотрено используемое автоматическое оборудование. Уделено внимание контролю размеров элементов...
  • 1,30 МБ
  • дата добавления неизвестна
  • описание отредактировано
Наверх