Зарегистрироваться
Восстановить пароль
FAQ по входу

Ryssel H., Glawischnig H. (ed.). Ion Implantation: Equipment and Techniques

  • Файл формата pdf
  • размером 15,70 МБ
  • Добавлен пользователем
  • Описание отредактировано
Ryssel H., Glawischnig H. (ed.). Ion Implantation: Equipment and Techniques
Springer-Verlag, Berlin, Heidelberg, New York, Tokyo, 1983. — 563 p. (Springer Series in Electrophysics Vol. 11).
Ion Implanters
Ion Sources
Implanter Subsystems
Special Implantation Techniques
Ion Beam Lithography
Measuring Techniques
Implantation into Metals
Implantation into Semiconductors
Transient Annealing
Index of Contributors
  • Чтобы скачать этот файл зарегистрируйтесь и/или войдите на сайт используя форму сверху.
  • Регистрация